光學(xué)測(cè)量?jī)x產(chǎn)品及廠家
ftpadv expert 綜合薄膜測(cè)量軟件，光譜反射測(cè)量軟件ftpadv expert是專門為測(cè)量和分析r(λ)和t(λ)而設(shè)計(jì)的。用于確定各種材料的薄膜厚度、消光系數(shù)或折射率的光譜數(shù)據(jù)分析，這些參數(shù)都被加載到sentech光譜反射測(cè)量軟件中，使得能夠根據(jù)cauchy色散、drude振蕩給出的參數(shù)描述和擬合材料。
更新時(shí)間:2025-05-13
mdpinline 光伏測(cè)量?jī)x器，一秒內(nèi)完成正片晶片掃描。mdpinline是為高速自動(dòng)掃描硅晶片而設(shè)計(jì)的，它以每片不到一秒的時(shí)間記錄少子壽命的全部形貌。利用微波檢測(cè)光電導(dǎo)率定量測(cè)量少子壽命。憑借其緊湊的設(shè)計(jì)，mdpinline可以靈活地集成在傳送帶上或晶片分選系統(tǒng)中。
更新時(shí)間:2025-05-13
mdpinline ingot 光伏測(cè)量?jī)x器，多晶形貌少子壽命測(cè)量系統(tǒng)是為高產(chǎn)量生產(chǎn)用戶而設(shè)計(jì)的。對(duì)于一個(gè)面，以1毫米的分辨率，無(wú)接觸、無(wú)破壞地測(cè)量電阻率和少子壽命花費(fèi)不到一分鐘。電阻率和導(dǎo)電類型變化的自動(dòng)掃描可用于質(zhì)量控制和監(jiān)測(cè)爐子性能。面可以自動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，以便測(cè)量所有的四個(gè)側(cè)面。
更新時(shí)間:2025-05-13
mdpinline ingot 光伏測(cè)量?jī)x器，多晶形貌少子壽命測(cè)量系統(tǒng)是為高產(chǎn)量生產(chǎn)用戶而設(shè)計(jì)的。對(duì)于一個(gè)面，以1毫米的分辨率，無(wú)接觸、無(wú)破壞地測(cè)量電阻率和少子壽命花費(fèi)不到一分鐘。電阻率和導(dǎo)電類型變化的自動(dòng)掃描可用于質(zhì)量控制和監(jiān)測(cè)爐子性能。面可以自動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，以便測(cè)量所有的四個(gè)側(cè)面。
更新時(shí)間:2025-05-13
德國(guó)sentech激動(dòng)掃描系統(tǒng)mdppro,少子壽命測(cè)量?jī)x器的特征在于以1mm分辨率對(duì)500mm的一個(gè)面在不到4分鐘內(nèi)完成掃描。電阻率和少子壽命的測(cè)量完全無(wú)觸摸。利用微波檢測(cè)光電導(dǎo)率(mdp)同時(shí)測(cè)量少子壽命、光電導(dǎo)率、電阻率和p/n導(dǎo)電類型的變化。
更新時(shí)間:2025-05-13
sensol是sentech光伏產(chǎn)品組合中的自動(dòng)大面積掃描儀器。自動(dòng)表征膜厚、薄層電阻、霧度、反射和透射的均勻性。使用sensol，可以監(jiān)測(cè)大型玻璃基板上的沉積過(guò)程的均勻性，從而可以顯著減少儀器維護(hù)后重新開(kāi)始生產(chǎn)的時(shí)間。
更新時(shí)間:2025-05-13
senperc pv 是perc電池制造質(zhì)量控制的創(chuàng)新解決方案。senperc pv 測(cè)量al2o3/sinx堆疊層和用于鈍化perc電池的單層膜。監(jiān)測(cè)沉積過(guò)程的穩(wěn)定性。由此，可以優(yōu)化維護(hù)時(shí)間間隔。
更新時(shí)間:2025-05-13
德國(guó)sentech光伏測(cè)量?jī)x器mdpspot，具有成本效益的臺(tái)式少子壽命測(cè)試儀mdpspot可用于表征晶片或面。它為少子壽命測(cè)量提供了一個(gè)測(cè)量點(diǎn)。 低成本桌面式壽命測(cè)量系統(tǒng)，用于手動(dòng)操作表征不同制備階段的各種不同硅樣品？蛇x的手動(dòng)操作z軸用于厚度多達(dá)156毫米的樣品。標(biāo)準(zhǔn)軟件可輸出可視化的測(cè)量結(jié)果。
更新時(shí)間:2025-05-13
薄膜反射和透射的在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng) rt inline 反射率、透射率和膜厚的高速在線測(cè)量是rt inline的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。傳感器頭陣列掃描薄膜在大型玻璃基板上的反射和/或透射，作為內(nèi)部參考測(cè)量。利用ftpadv expert軟件可以方便地進(jìn)行層沉積過(guò)程的在線監(jiān)測(cè)。軟件接口可用于與主機(jī)的數(shù)據(jù)通信。
更新時(shí)間:2025-05-13
sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀是一種新型的光學(xué)診斷工具，是心靈超高分辨率的單一ald循環(huán)。在不破壞真空的條件下分析薄膜特性(生長(zhǎng)速率，厚度，折射率)，在短時(shí)間內(nèi)開(kāi)發(fā)新工藝、實(shí)時(shí)研究ald循環(huán)中的反應(yīng)機(jī)理是sentech ald實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)儀的主要應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-05-13
布魯克bruker白光干涉光學(xué)輪廓儀 contour x, 滿足微納米表面測(cè)量需要
更新時(shí)間:2025-05-13
布魯克bruker contourx-200 三維光學(xué)輪廓儀，靈活的臺(tái)式表面形貌測(cè)量設(shè)備
更新時(shí)間:2025-05-13
布魯克 dektakxt 臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）設(shè)計(jì)創(chuàng)新，實(shí)現(xiàn)了更高的重復(fù)性和分辨率，垂直高度重復(fù)性高達(dá) 5å。第十代 dektakxt臺(tái)階儀（探針式表面輪廓儀）的技術(shù)突破，實(shí)現(xiàn)了納米尺度的表面輪廓測(cè)量，從而可以廣泛的應(yīng)用于微電子器件，半導(dǎo)體，電池，高亮度發(fā)光二管的研發(fā)以及材料科學(xué)域。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41b，可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.1um 的顆粒。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-13
美az 總輻射度/太陽(yáng)能吸收率(tesa)便攜式反射計(jì) tesa 2000，根據(jù)astm e408測(cè)定熱發(fā)射率和空氣質(zhì)量為零時(shí)的太陽(yáng)吸收率(空間應(yīng)用)。它緊湊，輕巧，堅(jiān)固耐用，符合人體工程學(xué)設(shè)計(jì)，便于在野外或?qū)嶒?yàn)室中使用。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion氣體粒子計(jì)數(shù)器：kl-28b/28bf( 光散射法）,粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.2μm， ≥0.5μm, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-16/16f ( 光散射法）, 大粒子數(shù)濃度：1 200 顆/l （誤差值低于5%）, 粒徑范圍（5個(gè)通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-17b ( 光散射法）,純水用，大粒子數(shù)濃度：100 000 顆/ml （誤差值低于5%），粒徑范圍（2個(gè)通道）：≥0.05μm， ≥0.1μm （4通道需工廠定制）
更新時(shí)間:2025-05-13
日本理音rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f，寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-24 ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，可檢測(cè)從純水到氫氟酸各種各樣的液體。可測(cè) 0.1um 空氣顆粒度儀kc-24
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-41a ( 光阻用），可檢測(cè)光阻產(chǎn)品、sog 等產(chǎn)品中 0.15um 的顆粒。粒徑范圍（4個(gè)通道，出廠默認(rèn)）：≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion 液體光學(xué)顆粒度儀：ks-18f ( 光散射法）液體光學(xué)顆粒度儀 ks-18f寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.05~0.2um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。 可偵測(cè)到小粒徑 0.05um 的粒子
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42a&42af ( 光散射法）,可測(cè)試 0.1~0.5um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42b/42bf ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.2~2.0um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-42c ( 光散射法）,寬廣的測(cè)試范圍，可測(cè)試 0.5~20um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。
更新時(shí)間:2025-05-13
日本理音 rion 粒子計(jì)數(shù)器 ks-20f，檢測(cè)粒徑為0.02μm的顆粒，從0.02μm到0.08μm可達(dá)7個(gè)通道
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-01e ( 光散射法）,液體粒子計(jì)數(shù)器，測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-05-13
日本rion粒子計(jì)數(shù)器kc-03b ( 光散射法）,測(cè)試粒徑（5個(gè)通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm
更新時(shí)間:2025-05-13
sinton少子壽命測(cè)試儀wct-120，suns-voc，硅片少子壽命測(cè)試系統(tǒng)，采用了獨(dú)特的測(cè)量和分析技術(shù)，包括準(zhǔn)穩(wěn)定態(tài)光電導(dǎo)(qsspc)測(cè)量方法？伸`敏地反映單、多晶硅片的重金屬污染及陷阱效應(yīng),表面復(fù)合效應(yīng)等缺陷情況。
更新時(shí)間:2025-05-13
lfa 467 hyperflash 閃射法導(dǎo)熱儀，自由選擇測(cè)試氣氛，優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)置與閃射光源，16位自動(dòng)進(jìn)樣器，高的測(cè)量效率，寬廣的溫度范圍，靈活配備冷卻系統(tǒng)，設(shè)計(jì)獨(dú)特，性能優(yōu)異，配備氙燈光源的，高溫測(cè)試系統(tǒng)，寬廣的溫度范圍，真空密閉爐體，確保氣氛純凈，防止氧化，內(nèi)置微型管式爐，更高的測(cè)量效率，高數(shù)據(jù)采集速率- 用于薄膜與高導(dǎo)熱材料的解決方案
更新時(shí)間:2025-05-13
oai is a world leader in uv liight & energy measurement instrumentation used for reliable accurate calibrated control of the hotolithography processes in the semiconductor
更新時(shí)間:2025-05-13
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-05-13
日本理學(xué)x射線衍射儀 tfxrd-300/200， 適用于near-fab application的無(wú)損方式xrd·mapping tool有多種光學(xué)元件可選的高精度測(cè)角儀，用于氮化鎵（gan)質(zhì)量管理，可對(duì)應(yīng)大規(guī)格晶圓的x射線衍射分析（xrd)系統(tǒng)
更新時(shí)間:2025-05-13
gjx-2光干涉瓦斯檢定器校正儀是采用壓力連通器原理研制的。主要用于校驗(yàn)光干涉式瓦斯測(cè)定器的精度及氣密性
更新時(shí)間:2025-05-13
無(wú)影燈光色測(cè)試儀是依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy 9706.241-2020醫(yī)用電氣設(shè)備 第2-41部分: 手術(shù)無(wú)影燈和診斷用照明燈的基本安全和基本性能用要求研發(fā)設(shè)計(jì)的。
更新時(shí)間:2025-05-13
1、滿足標(biāo)準(zhǔn)：《yy 1081—2011醫(yī)用內(nèi)窺鏡 內(nèi)窺鏡供給裝置 冷光源》；2、設(shè)備用途：內(nèi)窺鏡供給裝置冷光源檢測(cè)。
更新時(shí)間:2025-05-13
滿足標(biāo)準(zhǔn)：這是一款根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy0843-2011研發(fā)生產(chǎn)的一款用于測(cè)試氣腹機(jī)氣壓、流量、顯示耗氣量準(zhǔn)確性等性能的標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-05-13
滿足標(biāo)準(zhǔn)：該設(shè)備是根據(jù)yy/t 0113《牙科學(xué) 復(fù)合樹(shù)脂耐磨耗性能測(cè)試方法》標(biāo)準(zhǔn)要求設(shè)計(jì)的。設(shè)備用途：用于檢測(cè)牙科復(fù)合樹(shù)脂材料的磨耗性能。
更新時(shí)間:2025-05-13
該設(shè)備是對(duì)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能進(jìn)行檢測(cè)的設(shè)備，是西安信捷依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)《yy 0068.1—2008》研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)的。
更新時(shí)間:2025-05-13
該設(shè)備是依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy 0068.1—2008研發(fā)設(shè)計(jì)的。主要是用于檢測(cè)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能。
更新時(shí)間:2025-05-13
yy0763標(biāo)準(zhǔn)醫(yī)用內(nèi)窺鏡檢測(cè)裝置的檢測(cè)功能：1.內(nèi)窺鏡光纜出光角測(cè)試2.光譜透過(guò)率測(cè)定3.光能傳遞效率測(cè)定4.扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)5.短暫壓扁試驗(yàn)6.拉伸試驗(yàn)
更新時(shí)間:2025-05-13
燈和燈系統(tǒng)光生物安全檢測(cè)設(shè)備是西安信捷智能檢測(cè)科技有限公司依據(jù)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《iec 62471:2006 燈和燈系統(tǒng)的光生物安全性》和《gb/t 20145-2006 燈和燈系統(tǒng)的光生物安全性》研發(fā)設(shè)計(jì)的。
更新時(shí)間:2025-05-13
1、設(shè)備的用途：設(shè)備中發(fā)光源的激光輻射類別檢測(cè)、輻射量、伴隨輻射等參數(shù)的檢測(cè)；2、依據(jù)的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：《gb7247.1-2012》、《iec60825-1：2007》
更新時(shí)間:2025-05-13
設(shè)備的用途：相機(jī)鏡頭焦距、各種光學(xué)零件、部件及光學(xué)系統(tǒng)的像質(zhì)研究及光學(xué)基本量的測(cè)定。
更新時(shí)間:2025-05-13
全自動(dòng)激光檢測(cè)分析儀符合標(biāo)準(zhǔn)《iec60825-1:2007》《gb7247.1-2012》《gb9706.20-2000》,用于醫(yī)療器械中醫(yī)用激光得分類檢測(cè)、激光輻射檢測(cè)、伴隨輻射檢測(cè)、允許照射量檢測(cè)、輻射量檢測(cè)等。采用觸摸屏控制和計(jì)算機(jī)軟件雙操作平臺(tái)，兩者可兼容操作也可獨(dú)立操作。
更新時(shí)間:2025-05-13
西安航天基地信捷iem300紅光治療儀檢測(cè)設(shè)備光譜測(cè)試系統(tǒng)依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy/t1496-2016、yy0669-2008和yy0901-2013,是一款為光譜治療設(shè)備如紅光治療設(shè)備、嬰兒光治療設(shè)備、紫外治療等設(shè)備光學(xué)性能評(píng)估而設(shè)計(jì)的一款檢測(cè)設(shè)備。
更新時(shí)間:2025-05-13
西安信捷ecr900醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)性能檢測(cè)裝置是我公司依據(jù)標(biāo)準(zhǔn)yy0068.1-2008和yy1298-2016研發(fā)設(shè)計(jì)的一款用于檢測(cè)醫(yī)用內(nèi)窺鏡光學(xué)成像性能的高精度、高效率、多功能、全自動(dòng)的檢測(cè)儀器。
更新時(shí)間:2025-05-13
yy1081-2011西安信捷clt800醫(yī)用內(nèi)窺鏡冷光源檢測(cè)系統(tǒng)產(chǎn)品設(shè)計(jì)依據(jù)醫(yī)藥行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)《yy 1081—2011醫(yī)用內(nèi)窺鏡 內(nèi)窺鏡供給裝置 冷光源》,主要用于
更新時(shí)間:2025-05-13
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