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馬弗爐/電阻爐產(chǎn)品及廠家

1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ
1700℃立式淬火爐gsl-1700x-80vtq采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結構，專為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進入冷水或油等淬冷介質中快速冷卻而設計，以研究材料階段性過渡和微觀結構。
更新時間:2025-05-14
1700℃立式高溫管式爐GSL-1700X-80VT
700℃立式高溫管式爐gsl-1700x-80vt采用硅鉬棒進行加熱，最高溫度可以達到1700℃，專門針對于材料在真空或氣氛保護環(huán)境下的燒結。溫控系統(tǒng)采用pid控制器，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。
更新時間:2025-05-14
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1700x-ⅲ采用三個數(shù)字溫度控制器進行獨立控溫，可設置30段升降溫程序，中心加熱區(qū)采用800℃級硅鉬棒加熱，另外兩個溫區(qū)采用硅碳棒進行加熱，調整三個溫區(qū)的溫度，可形成一個溫度梯度，進行功
更新時間:2025-05-14
1700℃真空高溫管式爐GSL-1700X-S60
1700℃真空高溫管式爐gsl-1700x-s60采用18
更新時間:2025-05-14
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S
1700℃真空管式爐gsl-1700x-s采用30段程控pid控溫儀，最高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。
更新時間:2025-05-14
1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X
1700℃高溫真空氣氛管式爐gsl-1700x采用1700℃級硅鉬棒為加熱元件，最高溫度可達到1700℃，可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火？販貎x表操作視頻
更新時間:2025-05-14
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1600x-iii主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產(chǎn)，針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）等工藝。
更新時間:2025-05-14
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S
1600℃真空高溫管式爐gsl-1600x-s加熱元件采用1750℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結或退火。
更新時間:2025-05-14
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X
1600℃真空高溫管式爐gsl-1600x加熱元件采用1700℃級硅鉬棒，廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下，新材料樣品的燒結或退火。控溫儀表操作
更新時間:2025-05-14
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐gsl-1400x-ⅲ以硅碳棒為加熱元件，采用s型單鉑銠熱電偶測溫和708p溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置，可在多種氣氛下工作，主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）等工藝，特別適合批量生產(chǎn)使用。gsl系列管式爐操作視頻
更新時間:2025-05-14
1500℃高溫真空管式爐GSL-1500X
1500℃高溫真空管式爐gsl-1500x是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設有兩個真密封法蘭，控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制，其控溫精度為±1℃，可設置30段升降溫程序，最高溫度可達1500℃。
更新時間:2025-05-14
1500℃單溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X
500℃單溫區(qū)開啟式管式爐otf-1500x最高溫度可達1500℃，可設置30段升降溫程序，并設有過熱和斷偶保護功能，控溫精度高達±1℃，特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和燒結。
更新時間:2025-05-14
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1500x-iii是高溫管式爐，最高溫度可達1500℃，三個溫區(qū)分別用三個獨立的溫控系統(tǒng)控制，每個溫區(qū)都可以設置30段升降溫程序，并設有過熱和斷偶保護功能，控溫精度高達±1℃。本機特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和
更新時間:2025-05-14
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐otf-1200x-ii最高溫度可達到1200℃，并可通過調節(jié)兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用cvd方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
更新時間:2025-05-14
1200℃開啟式管式爐OTF-1200X-5L
1200℃開啟式管式爐otf-1200x-5l是一款單溫區(qū)管式爐，爐管直徑φ 5″，長1400mm ，最高溫度可達到1200℃。本機可在各種氣氛保護下對樣品進行熱處理、沉積、燒結，是一款極佳的實驗設備。
更新時間:2025-05-14
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐otf-1200x是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)，在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下，對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。
更新時間:2025-05-14
1100℃ 16通道管式爐（高通量退火&淬火）
式爐共有16個通道，其爐管尺寸25 od x 20 id x 200 l mm 每個加熱模塊都有獨立的溫控系統(tǒng)控制，最高溫度可加熱到1100℃kf25的快接法蘭安裝在每根石英管上，可使樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理加熱模塊有兩種工作位置，
更新時間:2025-05-14
8.5″帶滑動法蘭真空管式爐GSL-1100X-8.5-SR
品簡介：8.5″帶滑動法蘭真空管式爐gsl-1100x-8.5-sr是三溫區(qū)滑軌真空管式爐，可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下，在≤6″的基片上生長多種薄膜？販貎x表操作視頻
更新時間:2025-05-14
1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐
產(chǎn)品簡介：1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐gsl-1100x-8.5-sr-iii是三溫區(qū)滑軌真空管式爐，可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下，在≤6″的基片上生長多種薄膜。
更新時間:2025-05-14
1100℃三溫區(qū)11″管式爐GSL-1100X-11-III
產(chǎn)品簡介：1100℃三溫區(qū)11″管式爐gsl-1100x-11-iii是三溫區(qū)大尺寸系列管式爐，爐管直徑達到11″。本機廣泛用于真空或氣氛保護環(huán)境下對材料進行燒結
更新時間:2025-05-14
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X
產(chǎn)品簡介：大口徑管式真空氣氛爐gsl-1100x采用高純石英管，外徑規(guī)格有6″、8″、8.5″、11″可選，并配有不銹鋼法蘭，可進行抽真空或通入其他氣氛氣體操作，主要用于大尺寸樣品燒結的需求。
更新時間:2025-05-14
1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S
產(chǎn)品簡介：1200℃微型開啟式管式爐otf-1200x-s是小型管式爐，工作溫度為≤1200℃，功率為≤1200w，可配置直徑為1"或2"的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒
更新時間:2025-05-14
1200℃立式真空小管式爐
產(chǎn)品簡介：1200℃立式真空小管式爐otf-1200x-s-vt是一款小型開啟式立式管式爐，適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用pid控制器進行溫度調節(jié)，可設置30段升降溫程序，控溫精度為± 1℃。
更新時間:2025-05-14
1200℃開啟式立式爐
產(chǎn)品簡介：1200℃開啟式立式爐otf-1200x-80-vt是可垂直開啟式管式氣氛爐，能夠實現(xiàn)在真空或氣氛保護條件下對樣品快速升降溫。本機可垂直安裝在可移動的支架上，方便爐管的取放。
更新時間:2025-05-14
1200℃七溫區(qū)獨立控制管式爐（定制）
產(chǎn)品簡介：1200℃七溫區(qū)獨立控制管式爐otf-1200x-vii（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節(jié)各個溫區(qū)的溫度，可以在加熱區(qū)內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區(qū)域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
更新時間:2025-05-14
GSL-1700X-MGI-4 小型4通道管式爐
產(chǎn)品簡介：gsl-1700x-mgi-4是一款小型4通道管式爐，其爐管直徑為φ25mm,針對于高通量熱處理實驗。特別是對于合金和陶瓷熱處理，其最高溫度可以達到1700℃。對于在材料基因計劃中探索材料相圖是非常好的實驗工具。
更新時間:2025-05-14
6″單溫區(qū)CVD真空管式爐
產(chǎn)品簡介：6″單溫區(qū)cvd真空管式爐gsl-1100x-6-s是一款爐管內徑為6″的真空管式爐，可以在不同氣氛下，在≤5″的基片上生長多種薄膜。
更新時間:2025-05-14
GSL-1100X-S 1100℃多工位管式爐
產(chǎn)品簡介：gsl-1100x-s1100℃ 多工位管式爐是小口徑管式爐，專為制備小型樣品而設計溫度可達≤1100℃。爐體可垂直或水平放置，以滿足不同的應用，如樣品加熱、vsl、cvd 、淬火試驗等。
更新時間:2025-05-14

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